Silisyum karbür ince filmlerin reaktif doğru akım manyetik alanda sıçratma yöntemiyle üretimi ve karakterizasyonu
Synthesis and characterization of silicon carbide thin films by reactive DC magnetron sputtering
- Tez No: 292228
- Danışmanlar: PROF. DR. ONURALP YÜCEL
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Metalurji Mühendisliği, Metallurgical Engineering
- Anahtar Kelimeler: Kaplama, Silisyum karbür, İnce filmler, Coating, Silicon carbide, Thin films
- Yıl: 2010
- Dil: Türkçe
- Üniversite: İstanbul Teknik Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Metalurji ve Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Malzeme Bilimi ve Mühendisliği Bilim Dalı
- Sayfa Sayısı: Belirtilmemiş.
Özet
Bu çalışmada, SiC ince filmler, yüksek saflıktaki (% 99,999) Si hedef malzeme kullanılarak reaktif doğru akım manyetik alanda sıçratma yöntemiyle AISI M2 yüksek hız çeliği, mikroskop camı ve Si (100) plaka olmak üzere 3 tip altlık malzeme üzerinde biriktirilmiştir. Farklı kompozisyonlarda kaplama oluşturmak amacıyla ortama, değişen CH4/Ar gaz akış oranlarında (% 0?50) reaktif gaz verilmiştir. Deneylerdeki bu kompozisyon değişimini öncelikle harici ısıtıcı kullanmadan yaklaşık 50 °C sıcaklıkta, daha sonra aynı parametrelere sahip deneyleri harici ısıtıcı kullanarak 250 °C altında gerçekleştirerek numunelerin faz yapılarında, sertliklerinde, kompozisyonlarında ve aşınma dirençlerinde meydana gelen değişimler gözlemlenmiştir.
Özet (Çeviri)
In this study, SiC thin films were deposited on AISI M2 high-speed steel, microscope glass and Si (100) wafer substrares by the reactive DC magnetron sputtering of high purity (%99,999) Si target material. In order to create deposition at different compositions, reactive gas was introduced into the environment at a flow rate of CH4/Ar between % 0?50. Phase formations, hardness, compositions and wear resistance were first examined on the coatings deposited without using the external heater at 50 oC and then on the coatings deposited by using the heater at 250 oC.
Benzer Tezler
- Tungsten karbonitrür (WCN) ince filmlerin reaktif doğru akım manyetik alanda sıçratma yöntemiyle üretimi ve karakterizasyonu
Synthesis and characterization of tungsten carbonitride (WCN) thin films by reactive DC magnetron sputtering
ERŞAT ÇAYAN
Yüksek Lisans
Türkçe
2013
Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik ÜniversitesiMetalurji ve Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. ONURALP YÜCEL
- Foto-iletkenlik ölçüleri için uygun silisyum numunelerin hazırlanması
Başlık çevirisi yok
AYTEKİN ERDEM
Yüksek Lisans
Türkçe
1987
Fizik ve Fizik MühendisliğiTrakya ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
Y.DOÇ.DR. HASAN AKBAŞ
- Amorf silisyum karbür filmlerinin hazırlanması ve çeşitli fiziksel özelliklerinin ölçümü
Başlık çevirisi yok
RAMAZAN ESEN
Doktora
Türkçe
1986
Fizik ve Fizik MühendisliğiÇukurova ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. REMZİ ENGİN
- Silisyum yarı iletkeninden yapılan ve p+ pp+ ve MPP+ yapılarında akım iletimine sıcaklığın etkisi
Başlık çevirisi yok
SEBAHATTİN TÜZEMEN
Yüksek Lisans
Türkçe
1987
Fizik ve Fizik MühendisliğiAtatürk ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
DOÇ.DR. NECATİ YALÇIN
- Modüle edilmiş fotoakım yöntemi ile amorf silisyum filmlerde yerleşik durum yoğunluğunun belirlenmesi
Başlık çevirisi yok
GÜLEN AKTAŞ