Geri Dön

MOS tabanlı Gd\Y₂O₃ katkılı radyasyon dedektörlerinin karakterizasyonu

Characterization of MOS-based Gd/Y₂O₃ doped radiation detectors

  1. Tez No: 940332
  2. Yazar: CANAN KALİBER
  3. Danışmanlar: DOÇ. DR. EMRAH TIRAŞ
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Modern fizik, Nükleer fizik, Tıbbi fizik, Yeni fizik, Modern physics, Nuclear physics, Medical physics, New physics
  7. Yıl: 2025
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Erciyes Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: Belirtilmemiş.

Özet

MOS kapasitörler, modern elektroniğin temel yapı taşlarından biridir ve günlük hayatımızda kullandığımız birçok cihazın çalışmasında önemli bir rol oynamaktadır. Gelecekteki elektronik teknolojilerinin gelişimi için de büyük önem taşımaktadır. Bu çalışmada, n-tipi silikon alt tabakalar üzerine üretilen Al/Gd/Y₂O₃/n-Si/Al MOS kapasitörlerinin yapısal, morfolojik ve yüzey özellikleri üzerinde Gadolinyum (Gd) katkısının etkileri araştırılmıştır. Özellikle radyasyon algılama uygulamaları için kapasitör performansı üzerindeki etkilerini değerlendirmek amacıyla Gd katman kalınlıkları (10 nm, 100 nm, 500 nm) sistematik olarak değiştirilmiştir. X-ışını kırınımı (XRD) ile yapısal karakterizasyon, Gd katkılanmasının termal işlem sırasında amorftan düzgün kristale geçişe neden olduğunu ve katkılanmamış Y₂O₃ filmlerine kıyasla içsel stresi azalttığı tespit edilmiştir. Taramalı elektron mikroskobu (SEM) analizine göre, daha ince filmlerde gelişmiş homojenlik, benzersiz tane yapıları ve daha pürüzsüz yüzeyler gösterirken, daha kalın filmlerde artan kristalleşme ve tane büyümesi sergilediği gözlemlenmiştir. Ayrıca radyasyon kaynaklı oksit ve ara yüz tuzak yoğunluklarının azaldığı tespit edilmiştir. Bu sonuçlar, Gd katkılı Y₂O₃ in yüksek hassasiyet ve kararlılık gerektiren yeni nesil radyasyon sensörleri için umut verici bir malzeme olarak potansiyelini vurgulamaktadır.

Özet (Çeviri)

In this study, the presence of Gadolinium (Gd) doping on the flexible, morphological, and surface properties of Al/Gd/Y₂O₃/n-Si/Al MOS capacitors fabricated on n-type silicon substrates were analyzed and investigated. Electron beam evaporation and thermal oxidation technologies were used to fabricate Y2O3 oxides and Gd thin film layers. In the study, Gd layer distributions with three different thicknesses (10 nm, 100 nm, 500 nm) were systematically deposited to investigate their thickness variation impacts on the Y₂O₃ oxide thin film layers performance, especially for the disclosure sensing systems. Structural characterization by X-ray diffraction (XRD) revealed that Gd doping caused amorphous to regular crystalline transition during thermal processing and internal stress was made compared to undoped Y₂O₃ films. Scanning electron microscopy (SEM) analysis showed improved homogeneity, unique grain structures, and smoother surfaces in thinner films, while thicker films exhibited increased crystallinity and grain growth. Modulation of Y₂O₃ (150 nm) was performed, providing a stable dielectric scheme, and facilitating reliable comparisons between configurations. The main findings show that Gd doping reduces diffuse oxide and scattering traces, thus improving the robustness and durability of MOS capacitors. These results highlight the potential of Gd-doped Y₂O₃ as a promising material for next-generation radiation sensors with high stability and stability range.

Benzer Tezler

  1. Televizyon reklamlarının ses-söz uyumu (Prozodi) yönünden incelenmesi ve dilimizin müziğine etkileri

    A study on the television advertisements from the point speech-sound harmany (prosody) and it's influence on the rhythm of our language

    C. HAKAN ÇUHADAR

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1986

    MüzikGazi Üniversitesi

    SAADETTİN ÜNAL

  2. 1,3-difenil-4,5-bis(hidroksiimino)-imidazolidin ve Ni(II), Cu(II), Pd(II), UO2(VI) komplekslerinin sentezi

    Başlık çevirisi yok

    VEFA AHSEN

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    1984

    Kimya MühendisliğiUludağ Üniversitesi

    Kimya Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. ÖZER BEKAROĞLU

  3. Growth and characterization of thermol SİO2 thin films

    Başlık çevirisi yok

    MERAL ÇELİK

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    1987

    Fizik ve Fizik MühendisliğiOrta Doğu Teknik Üniversitesi

    DOÇ. DR. BAYRAM KATIRCIOĞLU

  4. MOS arayüzey yük yoğunluğu ölçümü ve özelliklerinin saptanması

    Başlık çevirisi yok

    MUSTAFA METİN GÜZELGÖZ

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1989

    Fizik ve Fizik MühendisliğiUludağ Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. ALİ GÜNGÖR