Geri Dön

Silicon oxynitride layers for applications in optical waveguides

Optik dalga kılavuzları uygulamaları için silisyum oksinitrat tabakalar

  1. Tez No: 96223
  2. Yazar: FERİDUN AY
  3. Danışmanlar: PROF. ATİLLA AYDINLI
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: PECVD, Silisyum oksinitrat, FTIR, ATR, Dalga kılavuzu, Optical kayıp, Tavlama, Tek kip şartı, Prisma çiftlemesi. iv, Dalga kılavuzları, PECVD, Silicon oxynitride, FTIR, ATR, Waveguide, Optical absorption, Single mode, Prism coupling, Annealing. u, Waveguides
  7. Yıl: 2000
  8. Dil: İngilizce
  9. Üniversite: İhsan Doğramacı Bilkent Üniversitesi
  10. Enstitü: Mühendislik ve Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: Belirtilmemiş.

Özet

Silisyum oksinitrat tabakalar, 1.55 fim optik dalgaboyunda çalışan dalga kılavuzlarının çekirdek kısmını oluşturması amaçlanarak, SİH4, N2O, ve NH3 gazları kullanılarak PECVD tekniği ile büyütüldü. Tabakalar 350 °Ode N20 ve NH3 gazlarının akış oranları değiştirilerek elde edildi. Büyütülen tabakaların kırılma indisleri 1.46 ile 2.00 arasında değiştirilebilmektedir. Büyütülen tabakalar FTIR ve ATR yöntemleri ile incelendi. 3500 cm-1 deki N-H salınımmın overtonunun 1.55 fim de soğurmaya neden olduğu bilindiğinden bu bant ayrıntılı incelendi. Isıl tavlamanın tabakaların yapı özelliklerine etkileri araştırıldı. FTIR ve ATR yöntemleri ile tavlama sonucu N-H salınımmın tamamen ortadan kaldırıldığı gösterildi. Silisyum oksinitrata dayalı düzlemsel dalga kılavuzları üretildi ve optik soğurum N-H bağ sayısıyla ilişkilendirildi. Ayrıca, SiON'a dayalı tek kipli dalga kılavuzları da üretilerek bunlardaki giriş kaybı ile optik kayıp ölçüldü. Sonuç olarak düşük kayıplı dalga kılavuzları üretildi. 111

Özet (Çeviri)

Silicon oxynitride layers, aimed to serve as the core material for optical waveguides operating at 1.55/mi, were grown by a PECVD technique using SİH4, N20, and NH3 as precursor gases. The films were deposited at 350 °C, 13.56 MHz RF frequency, and 1 Torr pressure by varying the flow rates of N2O and NH3 gases. The resulting refractive indices of the layers varied between 1.47 and 2.0. The compositional properties of the layers were analyzed by FTIR and ATR infrared spectroscopy techniques. A special attention was given to the N-H bond stretching absorption at 3300-3400 cm-1, since its first overtone is known to be the main cause of the optical absorption at 1.55//m. An annealing study was performed in order to reduce or eliminate this bonding type. For the annealed samples the corresponding concentration was strongly reduced as verified by FTIR transmittance and ATR methods. A correlation between the N-H concentration and absorption loss was verified for silicon oxynitride slab waveguides. Moreover, a single mode waveguide with silicon oxynitride core layer was fabricated. Its absorption and insertion loss values were determined by butt-coupling method, resulting in low loss waveguides.

Benzer Tezler

  1. Solid-gas reactions of silicon with Y2O3 and nitrogen

    Si ve Y2O3' in azotla katı-gaz reaksiyonları

    ALİ YÖNDEN

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    1993

    KimyaOrta Doğu Teknik Üniversitesi

    Kimya Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. MERAL KIZILYALLI

  2. Pressureless sintering of single B-and (?-B) sialons with the aid of oxynitride glasses

    B-sialon ve (?-B)-sialon seramiklerinin oksinitrür katkıları ile basınçsız sinterleme örnekleri

    İLKSEN HİLAL YILDIR

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    1996

    Metalurji MühendisliğiOrta Doğu Teknik Üniversitesi

    Metalurji ve Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. MUHARREM TİMUÇİN

  3. Lanthanum silicon oxynitrides synthesis, X-ray diffraction and IR studies

    Başlık çevirisi yok

    GÜLLER GÜRBÜZ

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    1990

    KimyaOrta Doğu Teknik Üniversitesi

    Kimya Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. MERAL KIZILYALLI

  4. Silisyum dioksit depozisyon sistemi

    Silicon dioxide deposition system

    BARBAROS ŞEKERKIRAN

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1992

    Elektrik ve Elektronik Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    PROF. DR. DURAN LEBLEBİCİ

  5. Depresyonda tedaviye yanıtın klinik belirteçleri

    Clinical predictors of treatment response in depression

    SERDAR BULUT

    Tıpta Uzmanlık

    Türkçe

    Türkçe

    2006

    PsikiyatriGata

    Ruh Sağlığı ve Hastalıkları Ana Bilim Dalı

    DOÇ. ADNAN CANSEVER