Silisyum-silisyum dioksit sistemlerinin fiziksel özellikleri
The Physical properties of silicon-silicon dioxide systems
- Tez No: 9480
- Danışmanlar: DOÇ. DR. H. MÜMTAZ KIZILYALLI
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: Silisyumun oksitlenmesi, oksit yükü MOS, C-V tekniği, Oksitlenme, Silisyum, Silisyum dioksit, Silicon oxidation, oxide charge, MOS, C-V technique, Oxidation, Silicon, Silicon dioxide
- Yıl: 1990
- Dil: Türkçe
- Üniversite: Ankara Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: Belirtilmemiş.
Özet
İİİ ÖZET Yüksek Lisans Tezi SİLİSYUM-SİLİSYUM DİOKSİT SİSTEMLERİNİN FİZİKSEL ÖZELLİKLERİ Şenol ERTEN Ankara Üniversitesi Fen Bilimleri Enstitüsü Fizik Anabilim Dalı Danışman : Doç. Dr. H. Mümtaz KIZILYALLI 1990, Sayfa : 55 Jüri : Doç. Dr. H. Mümtaz Kızılyallı Prof. Aymelek özer Doç, Dr | Satılmış Atağ Silisyumun oksitlenme mekanizması ve kinetikleri tanımlandı. Boron türü katkıların, suyun ve klorun oksitlenme kinetiklerine etkisi incelenmiştir. Hızlı oksitlenme fazına dair modeller ve bunlar üzerine kurulan yeni model verilmiştir. RCA pul temizleme işlemi; tekrar edilebilirlik ve nitelik açılarından tercih edilen kuru oksitleme tekniği, TCA ve TCE'nin rolleri, yüksek basıncın oksit kalınlığı üzerindeki etkisi ve diğer oksitleme teknikleri anlatılmıştır. VLSI teknolojisinde olumsuz etkiyi haiz zorlamalar ve karekteristik durulma zamanları verilmiştir. Oksit ve ok- sit-silisytım arayüzeyinde mevcut olan yükler tanımlanmış ve bu yüklerin özellikleri araştırılmıştır. MOS yapısının fiziği ve arayüzey durum yoğunluğunun belirlenmesinde kullanılan C-V yöntemi incelenmiştir.
Özet (Çeviri)
IV ABSTRACT Masters Thesis THE PHYSICAL PROPERTIES OF SILICON-SILICON DIOXIDE SYSTEMS Şenol ERTEN Ankara University Graduate School of Natural and Applied Sciences Department of Physics Supervisor : Assoc. Prof. Dr. H. Mümtaz KIZILYALLI 1990, Page : 55 Jury : Assoc. Prof. Dr. H. Mümtaz Kızılyallı flppjfrffpjv. Ay*np;Lpic. &SPF. föPPPl. ?F9f»\ PP*. gftoJLpjLŞ. A.t*ığ. The oxidation mechanism and kinetics of silicon were defined. The effects of the dopants like boron, water and cholorine on oxidation kinetics have been investigated. The models due to rapid oxidation phase and new model based on them have been given. RCA cleaning prosess, dry oxidation technique which is prefered in terms of reproducibility and quality, the roles of TCA and TCE, the effect of high pressure on oxide thickness, and other oxidation techniques have been studied. The stress which has a negative effect on VLSI technology and chracteristic relaxation times have been given. The charges which exist at oxide and oxide-silicon interface are defined, and their properties have been investigated. The physics of MOS structure and the determination of the density of interface states by C-V technique have been reviewed.
Benzer Tezler
- Bazı metal oksit- silisyum dioksit (MxOy-SiO2) sistemlerinin sol-gel metodu ile oluşumunun ve bazı özelliklerinin incelenmesi
Başlık çevirisi yok
AHMET KAŞGÖZ
Doktora
Türkçe
1992
Kimya MühendisliğiÇukurova ÜniversitesiKimya Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. MURAT ORBAY
- Düşük basınçta kimyasal buhardan depolama yöntemi ile katkılı ve katkısız silisyum dioksit tabakalarının depolanması
Deposition of undoped and doped silicondioxide films by low pressure chemical vapor deposition
MEHMET ÖNDER
Yüksek Lisans
Türkçe
1999
Elektrik ve Elektronik Mühendisliğiİstanbul Teknik ÜniversitesiPROF.DR. DURAN LEBLEBİCİ
- P-galyum arsenür (GaAs)/anodik izolasyon filmlerin arayüzey özelliklerinin incelenmesi
Investigation of interface properties in p-gallium arsenide (GaAs)/anodic insulator films
HAYRETTİN YÜZER
- Sentetik silisyum dioksit üretim prosesindeki sülfatlı atık suyun tekrar geri kullanılabilirliğinin incelenmesi
Başlık çevirisi yok
MURAT ECE
Yüksek Lisans
Türkçe
1998
Kimya MühendisliğiYıldız Teknik ÜniversitesiKimya Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. SELAHATTİN GÖKMEN
- Silisyum dioksit depozisyon sistemi
Silicon dioxide deposition system
BARBAROS ŞEKERKIRAN
Yüksek Lisans
Türkçe
1992
Elektrik ve Elektronik Mühendisliğiİstanbul Teknik ÜniversitesiPROF. DR. DURAN LEBLEBİCİ