Geri Dön

Hidrojenlendirilmiş amorf silisyum yapılarda kapasite gerilim yöntemiyle durum dağılımının belirtilmesi

Başlık çevirisi mevcut değil.

  1. Tez No: 76719
  2. Yazar: ORHAN DURAN
  3. Danışmanlar: DOÇ. DR. TÜLAY SERİN
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Schottky diyodu, amorf silisyum, durum yoğunluğu, kaygan düzey apasite yöntemi, omik kontak, doğrultucu kontak, Amorphous silicon
  7. Yıl: 1998
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Ankara Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Fizik Mühendisliği Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: Belirtilmemiş.

Özet

I ÖZET Yüksek Lisans Tezi HİDROJENLENDİRİLMİŞ AMORF SİLİSYUM YAPILARDA KAPASİTE-GERİLİM YÖNTEMİYLE DURUM DAĞILIMININ BELİRTİLMESİ Orhan DURAN Ankara Üniversitesi Fen Bilimleri Enstitüsü Fizik Mühendisliği Anabilim Dalı Danışman : Doç. Dr. Tülay SERİN 1998, Sayfa: 31 Jüri: Doç.Dr. Tülay SERİN Prof.Dr. Basri ÜNAL Prof.Dr. Selahattin ÖZDEMİR Bu çalışmada, Au/a-Si:H/a-Si:H(n-tipi)/ Cr Schottky yapılarında durum yoğunluğu dağılımı raştırılmıştır. Aralık durum yoğunlukları 0.35 - 0.50 eV enerji aralığında Michelson'un kaygan üzey kapasite yöntemiyle bulunmuştur. Tavlamanın durum yoğunluğu üzerindeki etkisini araştırmak için aynı diyotlar 100-175°C ıcaklık aralığında 2 volt ters beslem altında tavlanmışlardır. Her bir tavlama işleminden sonra durum oğunluğu bulunmuştur. Tavlamayla durum yoğunluklarında değişiklik gözlenmiştir. Bu değişiklikler opingin kusur giderici özelliği modeliyle açıklanmaya çalışılmıştır.

Özet (Çeviri)

II ABSTRACT Master Thesis DETERMINATION OF DISTRIBUTION OF STATES IN HYDROGENATED AMORPHOUS SILICON STRUCTURES FROM CAPACITANCE - VOLTAGE CHARACTERISTICS Orhan DURAN Ankara University Graduate School of Natural and Applied Sciences Department of Physics Engineering Supervisor: Assc. Prof. Tülay SERİN 1998, Pages: 31 Jury: Assc.Prof. Tülay SERİN Prof.Dr. Basri ÜNAL Prof.Dr. Selahattin ÖZDEMİR In this study, the distribution of density of state was investigated in a Schottky structure of iu/a-Si:H/a-Si:H(n-type)/ Cr. The gap state density in the energy range of 0.35 - 0.50 eV was bund by Michelson' s drive level capacitance method. In order to determine the effect of thermal annealing on the distribution of density of state he same diodes were annealed in the temperature range, 100 - 175 °C while a 2 volts reverse bias voltage was applied to their terminals. The density of state was found after the each annealing processes. The changes occurred in the density of state due to the annealing were interpreted by the defect compensation model of doping. CEY WORDS: Schottky diode, amorphous silicon, density of state, drive -level capacitance method, ohmic contact, rectifier contact.

Benzer Tezler

  1. Hidrojenlendirilmiş amorf silisyum ve silisyum-karbon alaşımlarında ışık ile yaratılan yarı-kararlı kusurların incelenmesi

    Light-induced metastable defect studies in hydrogenated amorphous silicon and silicon-carbon alloys

    ALP OSMAN KODOLBAŞ

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    1999

    Fizik ve Fizik MühendisliğiHacettepe Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. ÖZCAN ÖKTÜ

  2. Hidrojenlendirilmiş amorf silisyum-azot (a-SiNx:H) alaşımı ince filmlerin optik ve elektrik özellikleri

    Optical and electrical properties of hydrogenated amorphous silicon nitrogen (a-SiNx:H) alloy thin films

    İLKER AY

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2000

    Fizik ve Fizik MühendisliğiHacettepe Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. HÜSEYİN TOLUNAY

  3. Hidrojenlendirilmiş amorf silisyum filmlerin optik katsayılarını belirlemede kullanılan deneysel yöntemlerin karşılaştırılması

    Comparison of experimental methods used for determination of optical constants of hydrogenated amorphous silicon

    GÜNGÖR TAYYAR

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2001

    Fizik ve Fizik MühendisliğiHacettepe Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

  4. Hidrojenlendirilmiş amorf silisyum filmlerde uzay yükü ile sınırlı akım tekniği ile durum yoğunluğunun belirlenmesi

    Determination of density of states in a-Si:H using space charge limited current measurements

    TOLGA OKAT

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2001

    Fizik ve Fizik MühendisliğiHacettepe Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. AYNUR ERAY