Geri Dön

PVD tekniğiyle büyütülen MoO3 yarıiletken ince filmlerin elektriksel ve optik özelliklerinin incelenmesi

MoO3 thin films growth with physical vapour deposition technique and investigation of electrical and optical properties

  1. Tez No: 575835
  2. Yazar: CANAN YÖNEY
  3. Danışmanlar: DOÇ. DR. BEYHAN TATAR
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Magnetron Sıçratma Tekniği, Fiziksel Buhar Biriktirme, MoO3, PVD, MoO3, Magnetron Sputtering Technique, Physical Vapour Deposition
  7. Yıl: 2019
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Tekirdağ Namık Kemal Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: Belirtilmemiş.

Özet

Son yıllarda teknolojik gelişmelere paralel olarak artan enerji ihtiyacını karşılamak ve üretim maliyeti ile verim arasındaki ilişkiyi geliştirmek için alternatif malzemelerin araştırılması ve kullanılması önem kazanmıştır. Geleneksel ve enerji üretimi sınırlı olan malzemelerin yanında farklı malzemeler kullanarak hem yapı hem de verimi geliştirecek seçenekler gittikçe artmaktadır. Bu ihtiyacı karşılamak için geçiş metal oksit ailesi içerisinde özellikle MoO3 ilginç yapısal, kimyasal, elektriksel ve optiksel özellikleriyle ön plana çıkmıştır. Bu çalışmada MoO3 yarıiletken ince filmlerin fiziksel buhar biriktirme (PVD) yöntemi olan magnetron sıçratma tekniği ile c-Si, Corning cam ve ITO kaplı cam altlıklara oda sıcaklığında büyütülmüştür. MoO3 yarıiletken ince filmlerin yapısal özellikleri x-ışınları difraksiyonu (XRD) ve Raman Spektrumu analiziyle incelenmiştir. Büyütülen MoO3 yarıiletken ince filmlerin yüzey morfolojilerinin belirlenmesi için taramalı elektron mikroskobu (SEM) kullanılmıştır. Büyütülen MoO3 yarıiletken ince filmlerin optik özellikleri geçirgenlik ve yansıma ölçümlerinin incelenmesi ile yapılmıştır. Elektriksel karakterizasyonları karanlık ve aydınlıktaki Akım-Gerilim ölçümleri yapılmıştır. Bu incelemeler ışığında üretilen eklemlerin iletkenlik tipleri, özdirençleri, doğrultma özellikleri ve ışığa duyarlılıkları gibi parametreleri araştırılıp literatür ile karşılaştırılmış ve öneriler sunulmuştur.

Özet (Çeviri)

In recent years with technological developments, it has become important to investigate alternative materials for increasing energy need and reduce the cost. In addition to the traditional and energy-limited materials, there are increasing options to improve both the structure and efficiency by using different materials. In order to for this purpose, especially in the transition metal oxide family, MoO3 has remarked with its interesting structural, chemical, electrical and optical properties. In this study, MoO3 organic semiconductor thin films were grown on the c-Si, corning glass and ITO coated glass substrates by magnetron sputtering technique which is physical vapour deposition method at room temperature. The structural properties of MoO3 semiconductor thin films were investigated by X-ray diffraction (XRD) and Raman Spectrum analysis. Scanning Electron Microscopy (SEM) was used to determine the surface morphology of the MoO3 semiconductor thin films. Optical properties of MoO3 semiconductor thin films were investigated. For electrical characterization of MoO3 semiconductor thin films, current-voltage measurements were taken in dark and light. In the light of these investigations, parameters such as conductivity types, resistivity, straightening properties and light sensitivities were investigated.

Benzer Tezler

  1. Biyomedikal uygulamalarda pvd kaplama tekniğiyle hazırlanan ince filmlerin temel karakteristiklerinin incelenmesi

    An investigation of base characterizations of thin films deposited by pvd techniques in biomedical applications

    GÜLFEM IŞIK

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2010

    Makine MühendisliğiErciyes Üniversitesi

    Makine Mühendisliği Bölümü

    YRD. DOÇ. DR. ŞENGÜL DANIŞMAN

  2. PVD kaplama tekniği ile hazırlanan TiN ince filmlerin temel karakteristiklerinin incelenmesi

    Investigation of basic characteristics on TiN thin films obtaining from PVD coating technique

    AHMET UĞUR KAYA

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1998

    Fizik ve Fizik MühendisliğiKocaeli Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. YÜKSEL BEKTÖRE

    YRD. DOÇ. DR. HASAN ALANYALI

  3. Ark PVD yöntemiyle tin kaplanmış kesici takımların karakterizasyonu ve performanslarının incelenmesi

    Başlık çevirisi yok

    M.CENK TÜRKÜZ

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1997

    Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    Metalurji Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. E. SABRİ KAYALI

  4. Polimer elektrolit membranlı yakıt pilleri için katot üretimi

    Cathode production for polymer electrolyte membrane fuel cells

    DİDAR ESER

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2007

    Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    Metalurji ve Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF.DR. İ. SERVET TİMUR

  5. Maksillofasiyal kırıklarda topikal ve sistemik çinko kullanımının iyileşme üzerine etkilerinin tavşan modelinde değerlendirilmesi

    The effect of systemi̇c and topi̇cal zi̇nc treatment on the heali̇ng of maxi̇llofaci̇al fracture i̇n rabbi̇t mode

    İSA AZGIN

    Tıpta Uzmanlık

    Türkçe

    Türkçe

    2014

    Kulak Burun ve BoğazNecmettin Erbakan Üniversitesi

    Kulak Burun Boğaz Hastalıkları Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. HAMDİ ARBAĞ