Geri Dön

Tantalyum katkılı hafniyum oksit ince filmlerin sol jel metoduyla üretilmesi ve karakterizasyonu

Production and characterization of tantalum doped hafnium oxide thin films with sol gel method

  1. Tez No: 574059
  2. Yazar: VALA CAN AŞKAN
  3. Danışmanlar: PROF. DR. AHMET YAVUZ ORAL
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Metalurji Mühendisliği, Metallurgical Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 2019
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Gebze Teknik Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Malzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: Belirtilmemiş.

Özet

Bu çalışmanın amacı, optik entegre devrelerde kullanılmak üzere yüksek kırınım indisi ve geniş bant aralığına sahip olan düzlemsel dalga kılavuzu özelliği gösteren Tantalyum katkılı Hafniyum Oksit ince filmlerin geliştirilmesidir. İlk olarak, cam altlıklar sırasıyla saf su, aseton, saf su, etanol, saf su, metanol, saf su ve 2-proponal'de ultrasonik olarak temizlenmiştir. Çözeltinin hazırlanmasında, Hafniyum kaynağı olarak Hafniyum Tetraklorür (HfCl4), Tantalyum kaynağı olarak ise de Tantalyum Etoksik (Ta(CH3CH2O)5) kullanılmıştır. Kaplama işleminden önce hazırlanan çözelti 0,45 μm'lik mikro filtreden geçirilmiştir. Temizlenen cam altlıklar 100mm/dk çekme hızıyla daldırarak kaplama metoduyla kaplanmış ve 400-500-6000C'de tavlanmıştır. Üretilen ince filmlerin mikroyapısı Tarama Elektron Mikroskobu (SEM), faz analizi X-Işını Kırınımı (XRD) ve ince filmlerin kimyasal içeriği EDS metodu ile analiz edilmiştir. İnce filmlerin optik özellikleri UV-görünür bölge spektrofotometre ve Prizma Çiftleyici ile belirlenmiştir. Uv- görünür bölge spektrofotometre ile ince filmlerin optik bant aralığı ölçülürken, prizma çiftleyici ile ince filmlerin kırılma indisi bulunmuştur.

Özet (Çeviri)

In this study, Tantalum doped Hafnium Oxide (HfO2) thin films microstructure and optical properties have been investigated. Solution is synthesized using hafnium tetra chloride and tantalum ethoxide dissolved in ethanol. Glass substrates cleaned as ultrasnonic with DI water, ethanol, methanol, acetone and 2-proponal. Then thin films deposited by dip coating method at 4000C-5000C-6000C temperatures with a 100mm/min pulling out speed. After deposition process, thin film crystal structure characterized by Scanning Electron Microscope, X-Ray Diffraction. Chemical composition thin films analysis with a EDS method. Also optical properties parameters calculated both UV-Sis and Prism Coupler. Band gap calculated with the UV-Sis analysis and refractive index calculated with Prism Coupler

Benzer Tezler

  1. Isıl işlem koşullarının düşük alaşımlı Ni-Cr-Mo çeliğinin mekanik özelliklerine ve aşınma direncine etkisi

    The Effect of heat treatment on mechanical properties and wear resistance of low alloy Ni-Cr-Mo steel

    CEM ERHAZAR

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1992

    Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    DOÇ. DR. HÜSEYİN ÇİMENOĞLU

  2. Bazı kobalt esaslı alaşımlarda mikroyapı ve faz analizi

    Microstructure and phase analysis in some cobalt-base alloys

    ALEV OSMA

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1992

    Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    PROF. DR. E. SABRİ KAYALI

  3. Toz metalurjisi yöntemleriyle geliştirilen 9OW7N;3Fe ağır alaşımlarının sıvı faz sinterlemesi süreçleriyle üretilmesi ve karakterizasyonu

    Liquid phase sintering processes and characterization of 9OW-7N-3Fe heavy alloys developed by P/M methods

    TUNCAY ŞULAN

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1993

    Meteorolojiİstanbul Teknik Üniversitesi

    DOÇ.DR. M. LÜTFİ ÖVEÇOĞLU