Geri Dön

Deposition of nanocrystallized amorphous silicon thin films by magnetron sputtering

Nanokristalize edilmiş amorf silisyum ince filmlerin magnetron saçtırma yöntemi ile büyütülmesi

  1. Tez No: 352379
  2. Yazar: ELİF CEYLAN CENGİZ
  3. Danışmanlar: PROF. DR. EYÜP SABRİ KAYALI, DOÇ. DR. OSMAN ÖZTÜRK
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Metalurji Mühendisliği, Fizik ve Fizik Mühendisliği, Metallurgical Engineering, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Amorf silisyum, Film kaplama, Yarı iletken ince filmler, Amorphous silicon, Film coating, Semiconductor thin films
  7. Yıl: 2013
  8. Dil: İngilizce
  9. Üniversite: İstanbul Teknik Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Nanobilim ve Nanomühendislik Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: Belirtilmemiş.

Özet

Bu çalışmada nanokristalize edilmiş amorf silikon ince filmlerin sentezi yapılarak, güneş pili uygulaması için geliştirilmesi amaçlanmıştır. Bu amaç doğrultusunda, çalışma sırasında DC Magnetron Saçtırma ve RF Magnetron Saçtırma cihazları kullanılmıştır. İlk olarak DC-Magnetron Saçtırma cihazı ile 1 Watt, 4 Watt, 10 Watt ve 15 Watt değerlerinde, titanyum biriktirilmiş silikon altlık üzerine, 18 °C ortam sıcaklığında, 300 Å kalınlığında silikon kaplama yapılmıştır. Daha sonra 1 Watt için 2 sccm ile 20 sccm ve 15 Watt için ise 0.8 sccm ile 20 sccm argon akış hızlarında kaplamalar yapılmıştır. Bu çalışmalardan sonra RF güç kaynağına geçilmiş ve bu sefer de kullanılan silisyum toz hedef malzemesi haricinde sisteme bir de altlık olarak kullanılan tek kristal silisyum altlık hedef malzemesi olarak eklenmiştir. Her bir hedef malzemesi için 10 Watt, 15 Watt ve 150 Watt güç değerlerinde kaplamalar yapılmıştır. Ardından RF gücünde üretilen ve her iki hedef malzemesinin de kullanıldığı iki ayrı numune üretilip, 800 °C? de birer saat tavlama işlemi yapılmıştır. Yapılan her kaplama işleminin ardından numuneler vakum ortamından çıkarılmadan X-Işını Fotoelektron Spektroskopisi (XPS) ile karakterize edilmiştir. Daha sonra numunelere Atomik Kuvvet Mikroskobu (AFM), Raman Spektroskopisi, X-Işınları Difraksiyonu (XRD) ve Taramalı Elektron Mikroskobu (SEM) cihazları ile karakterizasyon işlemleri yapılmıştır. Yapılan tüm bu işlemler sonucu, karakterizasyon sonuçlarının ışığında önce yapıda amorf silisyumun eldesi sağlanmış, ardından yapılan tavlama işlemi ile beraber hedeflenen nanokristal silisyum elde edilmiştir.

Özet (Çeviri)

In this work, nanocrystallized amorphous silicon thin films were synthesized and it was aimed to apply this to solar cell applications which are accepted as one of the most important alternative for renewable energy sources. In accordance with this purpose, DC Magnetron Sputtering and RF Magnetron Sputtering was used. At first, by using DC Magnetron Sputtering, samples were deposited on titanium deposited silicon substrates under 1 Watt, 4 Watt, 10 Watt and 15 Watt, at 18 °C temperature. Thickness was 300 Å for all samples. After that thin film depositions were done for 1 Watt at 2 sccm and 20 sccm and for 15 Watt at 0.8 sccm and 20 sccm argon flow rate. Later on, RF power source started to be used and at that time addition to the powder silicon target, single crystalline silicon substrate was started to be used as target. For each target, thin film depositions were done at 10 Watt, 15 Watt and 150 Watt. After all these, two samples were deposited by RF power and annealed at 800 °C for 1 hour. After all deposition procedure, X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) characterization was made without taking samples outside. Behind all of these, samples were characterized by Atomic Force Microscopy (AFM), Raman Spectroscopy, X-Ray Diffraction (XRD) and Scanning Electron Microscopy (SEM). As a result of these, by the investigation of characterization results, it is understood that amorphous silicon was obtained at first and then nanocrystalline silicon particles were acquired by annealing.

Benzer Tezler

  1. Nanoyapılı ince film örneklerin, geçirmeli ve yüzey taramalı X-ışını saçılma yöntemleri (SAXS-GISAXS) ile incelenmesi

    Structural investigation of nanostructured thin film samples by using transmitted and grazing incident (SAXS-GISAXS) X-ray scattering methods

    BEGÜM ÇINAR BAM

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2017

    Fizik ve Fizik MühendisliğiHacettepe Üniversitesi

    Fizik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. SEMRA İDE

  2. Geleneksel konutlarda ahşap yapı konstrüksiyonları Ankara Erzurum Mahallesi örneği

    Başlık çevirisi yok

    MUALLA KALFAGİL

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1987

    MimarlıkGazi Üniversitesi

    Mimarlık Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. REŞAT ÖNGEN

  3. Zar tabakalı bir güneş havuzunda güneş ışınımının geçişi ile enerji depolanmasının incelenmesi

    Başlık çevirisi yok

    MÜKERREM ŞAHİN

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1987

    Fizik ve Fizik MühendisliğiGazi Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. ATİLLA ÖZMEN

  4. Sarıcakaya (Eskişehir) bölgesi bitümlü şeyllerinde organik jeokimyasal araştırma

    Organic geochemical investigation of bituminous shales of Sarıcakaya-Eskişehir region

    NECLA AKÇA

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1987

    Jeoloji MühendisliğiAnkara Üniversitesi

    Jeoloji Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    YRD. DOÇ. DR. GÖNÜL BÜYÜKÖNAL